晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。
      一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。由于我们的客户遍布全国各地，我们有专业的设备存储，运输及调试的一条龙服务团队。
      高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰asml（镜头来自德国），日本nikon（intel曾经购买过nikon的高端光刻机）和日本canon三大品牌为主。
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光刻机性能指标分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。
光刻注意事项给出如下：　　基片准备
　　由于基片的表面状态对其后所涂胶模的黏附性影响较大，所以一定要保证基片的清洁和干燥，以使得胶模黏附性较好。通常的做法是涂胶前将基片在热板上以150℃的高温烘烤几分钟；也可以增涂增粘剂（hmds）。

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