光刻机的匹配使用是指同一产品不同的工艺图层可以分别在不同型号或同一型号不同系列的光刻机上进行光刻，而不影响光刻工艺的质量。这包括了场镜误差(intraheld error)的匹配，隔栅误差(grid error)的匹配，线宽控制的匹配以及其它使用方面的匹配等，以下将分别论述如何对这些误差进行匹配和调整。
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     步进重复投影曝光（stepping-repeating project printing或称作stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（i line）～0.25μm（duv）。掩膜板缩小比例（4：1），曝光区域（exposure field）22×22mm（一次曝光所能覆盖的区域）。增加了棱镜系统的制作难度。
晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。由于我们的客户遍布全国各地，我们有专业的设备存储，运输及调试的一条龙服务团队。
分类光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动a手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的x轴，y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了

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